半導体材料
Semiconductors
F 会 場 自然科学本館1階
座長 生田目 俊秀 (10:00~11:15)
94.  奨励賞受賞講演
Ga-Alフラックスを用いたAlNの液相エピタキシャル成長法の開発(25)
  東北大多元研 安達 正芳 
住友金属鉱山 杉山 正史 飯田 潤二 田中 明和 
東北大多元研 福山 博之
95.  大気中熱処理によるa面サファイア基板の表面性状の変化と表面窒化に及ぼす影響
  東北大多元研(院生) 関谷 竜太 
東北大多元研 安達 正芳 大塚 誠 福山 博之
96.  反応性スパッタ法により作製されたAlN膜における熱処理による高品質化
  東北大多元研 熊田 智行 大塚 誠 福山 博之
97.  四塩化シリコンのClean Conversion反応解析シミュレーション
  早大理工(院生) 森山 悠 牛島 治宣 
早大理工 不破 章雄 国吉 ニルソン
――10分休憩――
座長 松尾 直人 (11:25~11:55)
98.  p型Ti酸化物透明導電膜の作製と物性評価
  京大工(現:クボタ) 林 徳樺 
阪大接合研 伊藤 和博 小濱 和之 
神鋼リサーチ 大西 隆 
京大工 白井 泰治 
立命館大 村上 正紀
99.  無添加n型SnO薄膜の作製と電気伝導性
  京大低温 林 博之 
京大工 片山 翔太 大場 史康 田中 功
――昼  食――