3 月 21 日


R 会 場  54号館 2 階

配線・実装材料 (1)
Interconnect/Packaging Materials

 座 長 松尾 直人 (13 : 00〜14 : 30)

648 JIM/TMS Young Leader International Scholar 講演 Single Wall Carbon Nanotube-Based Electrochemical Capacitors For Space Exploration Applications(25)

Georgia Tech Research Institute W. Jud Ready

649 Rh 単原子ワイヤーの観察

筑波大(院生) ○浅井満季
科技機構 前園好成 筑波大ナノプロ 安坂幸師
筑波大物質工・科技機構 木塚徳志

650 EBSP による微細配線の観察

茨城大工(院生) ○津田勇樹 工 Khoo Khyoupin 大貫 仁 秋田県立大 長南安紀
日立マイクロデバイス 斉藤達之 石川憲輔
インテレス研 長野隆洋
日立 赤星晴夫 端場登志雄 飛田俊実

651 Pd ナノメートル接点の原子配列と電気伝導・力学特性

筑波大(院生) ○松田知子 科技機構 前薗好成
筑波大 ナノプロ 安坂幸師 筑波大物質・科技機構 木塚徳志

652 イオン注入を利用して作製した歪緩和 SiGe/Si 中の転位の分布

山梨大工 ○山中淳二 (院生) 鈴木久美子
武蔵工大総研 澤野憲太郎 (院生) 福本敦之
山梨大工 中川清和 武蔵工大総研 白木靖寛

― 15 分 休 憩 ―

 座 長 大西  隆 (14 : 45〜16 : 00)

653 スパッタ Ta/Cu/Ta 薄膜の弾性特性

筑波大(院生) ○熊本正一郎 藤原健二
数理 谷本久典 水林 博

654 Cu-Au 金属間化合物合金膜の電気抵抗と熱安定性

法政大工 中島雄大 ○高山新司

655 Ta/Cu/Ta 薄膜配線の EM 効果III

筑波大(院生) ○海老沢朋子 数理 谷本久典 水林 博

656 TiN 基板上におけるナノスクラッチ試験の MD シミュレーション

茨城大工(院生) ○赤羽智明 工 篠嶋 妥 大貫 仁

657 Ir ナノメートル接点の構造と電気伝導特性の解析

筑波大(院生) ○龍  穣 科技機構 前園好成
筑波大ナノプロ 安坂幸師 物質工・科技機構 木塚徳志