3月16日

S3 めっき膜の構造及び物性制御(Ⅶ)
S3 Nano Plating(Ⅶ)

C会場1号館 1階109号室

座長 渡辺徹(09:00~10:20)
S3.1 超高負荷における無電解白金めっきの析出特性(30+10)
基調講演
  • 日本エレクトロプレイティング・エンジニヤース(株)○藤波 知之
  • 日本エレクトロプレイティング・エンジニヤース(株)朝川 隆信
S3.2 無電解めっきの添加剤の役割(30+10)
基調講演
  • 関東学院大 材表研○田代 雄彦
  • 関東学院大 材表研本間 英夫
休憩5分
座長 藤波知之(10:25~12:05)
S3.3 無電解めっきプロセスの理論的・実験的解析(30+10)
基調講演
  • 早大先進理工本間 敬之
S3.4 バイオテンプレートへの無電解めっき:藻類から微小金属らせんをつくる(30+10)
基調講演
  • 防衛医科大鎌田 香織
S3.5 電解析出法による強度・延性バランスに優れたアルミニウム合金の創製(15+5)
  • 大阪府大工○瀧川 順庸
  • 大阪府大工(院生)久間 千早希
  • 大阪府大工上杉 徳照
  • 大阪府大工東 健司
昼食
座長 田代雄彦(13:00~14:20)
S3.6 磁場中での電析:イオン空孔の関与(30+10)
基調講演
  • 吉野電化工業,早大,物質機構○杉山 敦史
  • 吉野電化工業吉野 正洋
  • 埼玉県庄和浄水場森本 良一
  • 北海道職業大三浦 誠
  • 山形県産技短大押切 剛伸
  • 港湾職能短大横浜浅沼 美紀
  • 福島県立テクノアカデミー郡山髙木 智士
  • 物質機構山内 悠輔
  • 物質機構,職能総大青柿 良一
S3.7 イオン液体を用いた表面処理技術(30+10)
基調講演
  • 千葉工大小浦 節子
休憩5分
座長 日野実(14:25~15:35)
S3.8 白金めっきに及ぼす吸着水素の影響と水素共析挙動(15+5)
  • 兵庫県立大院工○八重 真治
  • 兵庫県立大院工(院生)横山 綾乃
  • 兵庫県立大工(学生)角川 舞
  • 兵庫県立大院工福室 直樹
S3.9 電析Cu膜の室温粒成長に及ぼす水素の影響(20+10)
  • 兵庫県立大院工○福室 直樹
  • 兵庫県立大院工吉田 裕輝
  • 兵庫県立大院工山崎 貴昭
  • 東大生産研深井 有
  • 兵庫県立大院工八重 真治
S3.10 マイクロバブルを用いた新規めっき技術(15+5)
  • 東京農工大工中村 和樹
  • 東京農工大工○臼井 博明
  • 電通大宮田 清藏
休憩5分
座長 瀧川順庸(15:40~16:50)
S3.11 高強度鋼の水素脆性に及ぼす亜鉛およびZn-Ni合金めっきとシリカ複合化の影響(20+10)
  • 広島工大工○日野 実
  • 浅下鍍金浅下 秀昭
  • 石川県工試安井 治之
  • 石川県工試鷹合 滋樹
  • オーエム産業平松 実
S3.12 電気化学熱力学の罠 電気化学熱力学の限界とその技術への5つの弊害(30+10)
基調講演
  • ナノプレーティング研究所渡辺 徹

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