【研究会集会】


めっきは正にナノテクノロジー

(社)日本金属学会
ナノプレーティング研究会
第11回(通算75回)例会
特集:めっき膜中の水素の挙動

日 時 2004年10月14日(木)13:00~17:00
場 所 工学院大学 11階 第5会議室(東京都新宿区西新宿1-24-2)
講 演 13:00~17:00
 1.13:00~13:50 (50分)
 表面処理に起因する水素脆性
(有)高田研究所 高田幸路
 2. 13:50~14:40(50分)
 無電解銅めっき膜中への分子状水素の混入と、その物性に対する影響
早稲田大学 理工学部 沖中 裕
休憩14:40~14:50 (10分)
 3.14:50~15:40(50分)
 電析・触媒反応における金属-水素-ハロゲンの挙動から
旭硝子株式会社 中央研究所 吉武 優
 4.15:40~16:30 (50分)
 金属の化学的表面状態と水素の溶解・透過
-分子状水素と原子状水素の違いを中心に-
富山大学 水素同位体科学研究センター 波多野雄治
 5.16:30~17:00(30分)
 フリーディスカッション
参加費当研究会会員無料 非会員10,000円
参加申込FAXまたはE-mailで10月12日まで
問合先〒192-0397八王子市南大沢 1-1
東京都立大学大学院 工学研究科 応用化学専攻
渡 辺 徹
TEL&FAX 0426-77-2851
E-mail:watanabe-tohru@c.metro-u.ac.jp